我国冰晶画设备冰晶画设备的生产到20世纪末一直处于工艺技术落后、设备陈旧、产量小、品种少、质量低、成本高的状况。该冰晶画设备在高温熔制过程中粘度小、易析晶、成型困难,冰晶画设备技术,光学常数波动大,制作冰晶画设备,色散差,冰晶画设备,气泡与条纹不易消除,并对熔制用的陶瓷坩埚腐蚀严重。因此使用传统生产设备和工艺无法解决产量低、质量差、成本高等问题。高端光学产品所需的冰晶画设备和光学原器件基本上需从国外进口。
这些技术的创新成果满足了军民高科技的发展需要。我国在新型光学光电信息材料发展方面与国外相比还存在着较大的差距,其中液晶显示基板的高精密薄板冰晶画设备、低熔点冰晶画设备、非球面压型工艺、冰晶画设备、高密度光磁盘冰晶画设备在国内还处于空白。环保型冰晶画设备、冰晶画设备冰晶画设备的品种和质量及熔炼工艺技术还有待进一步提高,很多产品还有待进一步开发。